10月15日訊息據韓國時報報道，幾個月前世界頂級記憶體晶片製造商三星表示，正致力於開發極紫外光 (EUV)掃描技術，現在三星電子副會長李在鎔已經證實，該公司正在與荷蘭 ASML 進行談判，以進一步推進與 ASML 的業務關係。

“這段時間，我一直在探討如何發展有關 EUV 的關係，”李在鎔週三從荷蘭抵達金浦國際機場後告訴記者。李在鎔在 COVID-19 檢測結果為陰性後回國。

三星電子首爾總部在一份宣告中表示，李在鎔在為期一週的行程之餘，在埃因霍溫總部會見了 ASML 的高層管理人員，包括 CEO Peter Wennink 和 CTO Martin van den Brink。

會談內容涉及到雙方感興趣的各種問題，如 ASML 銷售 EUV 裝置的計劃，以及雙方合作開發下一代儲存器晶片的具體內容。宣告還稱，李在鎔參觀了 EUV 裝置的生產線。

獲悉，EUV 裝置對於製造 7nm 節點級及以下的晶片至關重要。雖然有采用老式深紫外 (DUV)掃描技術的多重疊加圖案迭代的替代性製造方法，以縮小圖案尺寸，但 EUV 技術在更好的良品率 (缺陷率)方面具有優勢。ASML 對該技術在智慧財產權和成本方面都有很高的信任度。

在日本將韓國從最值得信賴的商業夥伴名單中除名後，韓國政府鼓勵三星和該國的其他頂級製造商進行投資，以減少其關鍵工業材料對從日本進口的依賴。當韓國總統參觀了三星在省城華城建設的新記憶體晶片生產線時（將使用 EUV 技術），李在鎔表示，這一決定是該公司更好地為未來做準備的戰略的一部分。

在對基於邏輯和定製的儲存器半導體的需求不斷增長，由於中國公司的崛起傳統的儲存器晶片市場飽和的情況下，三星一直在與 ASML 分享其 EUV 技術知識。EUV 裝置仍然價格昂貴，因為每個系統的工具造價在 3500 萬美元以上。這家韓國公司還要與其主要系統晶片競爭對手臺積電爭奪激烈的晶片代工。

三星計劃在其華城工廠生產基於 EUV 的 5nm 以下超薄晶片。