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美光解散上海 DRAM 設計團隊,業內人士稱可能是為防止技術外洩

集微網訊息,1 月 25 日,業內有訊息指出,美光科技正在解散 150 人左右規模的上海研發中心,並挑選了 40 多位核心研發人員提供技術移民美國的資格。

針對上述訊息,集微網在向多位美光前員工與在職員工求證後獲悉,美光此次並非解散整個上海研發中心,而是僅僅解散了 DRAM 設計部門,該部門總人數超過 100 人。除了該團隊,美光上海研發中心還包括銷售、測試等多個部門。另外,美光目前在西安的工廠也不會發生其他異動,該廠主要開展積體電路裝配與測試以及 DRAM 模組製造。

美光員工告訴集微網,上海的 DRAM 設計團隊的解散將於今年內完成,公司提供技術移民美國資格的訊息屬實,部分核心員工將可以攜帶家屬一同移民至美國,目前仍無法確定有多少員工會選擇移民。

據一位前美光員工透露,美光的 DRAM 設計團隊此前有一大波人員流失至國內的本土 IC 設計公司和儲存大廠。

某半導體行業高管評論稱,美光解散 DRAM 設計團隊很有可能是出於防止技術外洩的考慮,雖然目前國內的 DRAM 企業數量相對較少,但未來幾年內或有可能湧現出新的幾家 DRAM 製造商,而且現有的 DRAM 企業也正求賢若渴,美光此舉或是想將產品的設計和研發收攏至中國大陸以外地區。

該行業高管還指出,美光對智慧財產權保護的重視程度由來已久,此前美光就曾因商業機密洩露將聯電告上法庭。不過在 2021 年 11 月 26 日,美光與聯電共同宣佈達成全球和解協議,將各自撤回向對方提出的訴訟,聯電將向美光一次支付金額保密的和解金,雙方在宣告中均稱,期待未來達成共同的商業合作機會。

美光在該智慧財產權訴訟結束時就曾強調,智慧財產權保護是美光賴以保持競爭力的重要基石。

市場調研公司 Counterpoint 報告顯示,三星以 41.5% 的市場份額居市場首位,SK 海力士市佔率 29.3% 排第二,美光則為 23.4% 居第三,前三大廠合計攻佔 DRAM 市場 94.2%。