由於最近更新了ShadowMask,漸進式光照這些功能。所以試了下

1.模型需勾選Generate Lightmap UVs，否則烘培圖像撕裂。

2.關於為何新版的改叫Mixed Lighting，之前是全烘培，現在算是部分烘培，實時陰影和烘培陰影可以混用，等等，Unity的未來方向。

3.關於shadow mask。舊版本(5.4或者之前)，烘培出的貼圖是沒有shadow mask的，而且烘培陰影和實時陰影沒法很好的融合，兩種區分很明顯。

其次是光照探頭LightProbe也沒辦法把陰影暗部信息儲存進去。現在的話實時陰影和烘培陰影可以很好的融合在一起，並且光照探頭也會保存陰影信息

動態模型進入暗處後也會隨之變暗。

而Distance Shadow mask則是近看是動態陰影，遠看變成烘培陰影，但會帶來更多的開銷。

4.烘培光照參數設置:

1).Indirect Resolution 間接光照分辨率，設置低了烘培速度更快，反之越慢。不會影響最終貼圖大小。

2).Lightmap Resolution 光照貼圖分辨率，低了影響品質。會影響最終貼圖大小。

3).Lightmap Size 貼圖尺寸，這個設置大了之後可以優化最終貼圖大小。我設置2048。

4).Directional Mode 以前好像有一個Directional Specular，由於現在往混合光照方向發展，去掉了這個。這個設置成非方向性的可以優化最終貼圖大小。

5).Mesh Renderer裏的優化uv設置，角度和距離改了感覺對優化沒什麽用，可能影響顯示效果。

5.註意C盤空間，虛擬內存。最後光照圖傳回unity的時候經常crash......

暫時寫這些，如果未來BakeGI接觸的多了可能會寫一篇詳細的。

Unity5 BakeGI(Mixed Lighting)小記