7 月 27 日訊息作為半導體工業皇冠上的明珠，光刻機代表著人類文明的智慧結晶。現在，為了讓更多人深入瞭解光刻機，ASML 專門打造了一座“追光實驗室”等你來體驗。

獲悉，在 ASML 這個特殊的實驗室裡面，你不僅可以沉浸式地瞭解光刻機內部的工作原理，還有豐富的 AR 互動深入瞭解光刻機的內部及其背後的技術原理，體驗不斷探索極限的科技魅力。

追光實驗室

不設限 敢追光

7 月 28 日-7 月 30 日

上海市浦東新區金科路 2889 弄長泰廣場（金科路與祖沖之路交岔口）

獲悉，7 月 28 日中午 12 點起，ASML 的“追光實驗室”將正式對外開放，快來挑戰所有關卡，領取你的專屬打卡。

在這裡，你可以通過 AR 技術進入 ASML 光刻機的內部，探索光源走過的每一個步驟，領略 ASML 是如何挑戰瑞利判據，和摩爾定律賽跑，實現更小的線寬，在奈米世界裡做極限的攀登者。

浸潤式光刻

當傳統的乾式光刻機日趨極限，線寬如何繼續縮小成為當時業內擔憂的發展瓶頸。ASML 成功地推出了浸潤式光刻機，用折射率大於 1 的水作為媒介，實現物鏡數值孔徑的增大，幫助最小解析度得到提升，開闢了半導體行業技術的新世界。

這裡有一個互動小遊戲，讓你可以由淺入深地瞭解“浸潤式技術”的發展軌跡和背後用到的光學原理。

雙晶圓工作臺

晶圓在進入光刻流程前要先進行測量和對準，此前的光刻機只有一個工作臺，測量、對準、光刻等所有流程都在這一個工作臺上完成。而 ASML 推出的雙工作臺系統（TWINSCAN system），即一個工作臺在給晶圓進行曝光的同時，另一工作臺可對下一片需曝光的晶圓進行測量，實現測量和曝光的無縫銜接，極大地提高了生產效率。

在這一環節，你可以通過第二個互動遊戲與 TWINSCAN 來場比試。