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投資超 430 億歐元,訊息稱歐盟“青睞”5nm 以下先進製程

歐盟委員會日前公佈了《晶片法案》,將投入超過 430 億歐元公共和私有資金,用於支援晶片生產、試點專案和初創企業

據中央社報道,歐盟負責內部市場的執行委員 Thierry Breton 接受德國《法蘭克福廣訊報》(Frankfurter Allgemeine Zeitung)採訪時表示,歐洲未來如果想成為全球領先的市場,有必要興建 2 到 4 座的大型晶圓廠。他並透露歐盟對 5nm 以下的先進製程尤其感興趣。

據悉,歐盟《晶片法案》於當地時間週二公佈,呼籲歐盟委員會放寬對創新半導體工廠的融資規則,改進半導體各種供應鏈危機管控能力,加強歐盟的晶片研究能力。歐盟將投入超過 430 億歐元公共和私有資金,用於支援晶片生產、試點專案和初創企業。其中,110 億歐元將用於加強現有的研究、開發和創新,以確保部署先進的半導體工具以及用於原型設計、測試的試驗生產線等。

儘管上述法案還需經過歐盟成員國及歐洲議會審查,走完程式至少要一年甚至更久,Thierry Breton 表示,相關規定會馬上生效。