光刻機全球龍頭 ASML 在美國的銷售額連續 3 年下降，與此形成鮮明對比的是，同期 ASML 在韓國和中國臺灣地區的銷量增幅高達 3 倍，證明美國對半導體生產基礎設施的投資不足。

據 ETNews 報道，ASML 佔全球光刻機市場的 84%，並獨家供應先進工藝所需的 EUV 光刻機。引進其裝置的數量會影響半導體生產能力，因此其銷售額能夠被用於衡量各地區對半導體裝置投資情況。

財報顯示，2019 年到 2021 年，ASML 在美國的收入下降了約 20%。從 2019 年的 19.8 億歐元，到 2020 年和 2021 年分別減少到 16.57 億歐元和 15.83 億歐元。

同期，ASML 在亞洲的銷售額顯著增長。在主要的半導體生產基地韓國，銷售額從 2019 年的 22.02 億歐元增長到 2021 年的 62.23 億歐元，增長了近兩倍。

中國臺灣地區也從 2019 年的 53.57 億歐元增長到去年的 73.27 億歐元，增幅為 37%。這是三星電子和 SK 海力士為擴大尖端微處理能力，引進了大量 EUV 光刻機的結果。臺積電大舉投資半導體裝置，也推動了銷售的增長。

在美國禁止出口 ASML 核心裝置 EUV 曝光裝置的中國大陸，其年銷售額也翻了一番，從 2019 年的 13.77 億歐元增至 2021 年的 27.4 億歐元。據分析，中國大陸購買的光刻裝置比美國還多。除受管制的 EUV 裝置外，主要引進了 ArF、KrF、i 線等光刻裝置。

ASML 在美國的銷量下降證明，美國在半導體生產基礎設施方面的投資到目前為止還不夠。到 2020 年，美國缺乏投資半導體晶圓廠的意願。據分析，這是因為英特爾宣佈進入代工領域的時間較晚，以及美光曾經對 EUV 裝置持懷疑態度。

隨著美國吸引本國的半導體生產基地，ASML 裝置的引進預計將會加速。英特爾計劃到 2025 年採用 ASML 下一代曝光裝置，美光也正式使用 EUV 裝置。

但是半導體業界預測，美國的半導體生產能力不會立即超過中國臺灣和韓國。半導體業界有關人士表示:“作為 ASML 的主要銷售和核心裝置的 EUV 裝置在中國臺灣為 80 臺，在韓國為 50 臺，與美國存在差距。美國大舉投資不會導致短期產能逆轉。”