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武漢:到 2025 年,晶片產業產值超過 1200 億元

1 月 18 日訊息,據武漢市人民政府網站,武漢市人民政府辦公廳本月釋出了《關於促進半導體產業創新發展的意見》(以下簡稱《意見》)。

瞭解到,《意見》提出,到 2025 年,武漢全市半導體產業能級明顯提升,產業結構更加合理,裝置、材料、封測配套水平對關鍵領域形成有力支撐。

產業規模方面,到 2025 年,晶片產業產值超過 1200 億元,半導體顯示產業產值超過 1000 億元,第三代半導體產業初具規模。

技術水平方面,到 2025 年,發明專利年均增速超過 15%,建立 3—5 個國家級創新平臺,牽頭制定 2—4 項行業標準,突破一批關鍵核心技術,實現一批關鍵技術轉化和應用。

市場主體方面,到 2025 年,培育形成 5 家銷售收入超過 100 億元的晶片企業、5 家銷售收入超過 100 億元的半導體顯示企業、5 家銷售收入超過 10 億元的半導體裝置與材料企業,半導體企業總數超過 500 家,上市企業新增 3—5 家。

《意見》提出的重點任務和產業佈局如下:

重點任務

(一)瞄準薄弱環節補鏈

1.增強積體電路裝置、材料和封測配套能力。在裝置環節,聚焦三維整合特色工藝,研發刻蝕、沉積和封裝裝置,引入化學機械研磨(CMP)機、離子注入機等國產裝置生產專案;在材料環節,圍繞先進儲存器工藝,開發拋光墊、光刻膠、電子化學品和鍵合材料,佈局化學氣相沉積材料、濺射靶材、掩膜版、大矽片等材料專案;在封測環節,引進和培育國內外封裝測試領軍企業,突破先進儲存器封裝工藝,推進多晶片模組、晶片級封裝、系統級封裝等先進封裝技術產業化。

2.加快半導體顯示裝置和材料國產化替代。在裝置環節,聚焦有機發光二極體(OLED)中小尺寸面板工藝,研發光學檢測、模組自動化裝置,引入顯示面板噴印、刻蝕機、薄膜製備等國產裝置生產專案;在材料環節,支援液晶玻璃基板生產專案建設,加快 OLED 發光材料、柔性基板材料的研發及產業化,引入濾光片、偏光片、靶材等國產材料生產專案。

3.佈局第三代半導體襯底及外延製備。在裝置環節,支援物理氣相傳輸法(PVT)裝置、金屬有機化合物氣相沉積(MOCVD)、分子束外延(MBE)等工藝裝置的研發及產業化;在材料環節,引進碳化矽(SiC)襯底、SiC 外延、氮化鎵(GaN)襯底生產線,佈局 GaN 外延晶片產線。

(二)立足現有基礎強鏈

1.打造儲存、光電晶片產業高地。在儲存晶片領域,重點引入控制器晶片和模組開發等產業鏈配套企業,研發超高層數三維快閃記憶體晶片、40 奈米以下程式碼型快閃記憶體、動態隨機存取儲存器、三維相變儲存器、存算一體晶片等先進儲存晶片;在光電晶片領域,支援 25G 以上光收發晶片、50G 以上相干光通訊晶片的研發及產業化,佈局矽基光通訊晶片、高階光感測晶片、大功率鐳射器晶片等高階光電晶片製造專案。

2.建設國內重要半導體顯示產業基地。在顯示面板領域,引進大尺寸 OLED、量子點顯示、亞毫米發光二極體(MiniLED)顯示等面板生產專案,佈局微米級發光二極體(MicroLED)顯示、鐳射顯示、8K 超高清、3D 顯示等未來顯示技術研發及產業化;在顯示模組領域,支援全面屏、柔性屏模組的研發及產業化,加快開發高端面板屏下感測元件及模組,引入光學鏡頭、背光模組等生產專案,逐步提升對中高端面板的產業配套能力。

(三)聚焦熱點領域延鏈

1.通訊射頻晶片。支援 5G 絕緣襯底上矽(SOI)架構射頻晶片、射頻電子設計自動化(EDA)軟體研發;面向 5G 基站、核心網、接入網等基礎設施市場,重點發展基帶晶片、通訊電晶片、濾波器等關鍵晶片。

2.通用邏輯晶片。加快圖形處理器(GPU)、顯控晶片的開發及應用,提升智慧財產權(IP)核對中央處理器(CPU)、人工智慧晶片等邏輯晶片的設計支撐能力,佈局信創領域處理器專案。

3.北斗導航晶片。支援研發北斗三號系統的新一代導航晶片、28 奈米高精度消費類北斗導航定位晶片、新一代多模多頻高精度基帶系統級晶片;面向交通、物流、農業、城市管理等領域開發通導一體化北斗晶片,拓展北斗應用。

4.車規級晶片。推進數字座艙晶片、駕駛輔助晶片、功率器件、汽車感測器等車規級晶片研發及產業化專案;面向新能源汽車,佈局動力系統、主被動安全系統、娛樂資訊系統、車內網路、照明系統車規級晶片產業化專案。

(四)圍繞前沿領域建鏈

1.第三代半導體器件。圍繞電力電子器件、射頻器件、光電器件等 3 個應用方向,引入碳化矽(SiC)功率電晶體、氮化鎵(GaN)充電模組、GaN 功率放大器、高光效 LED、MiniLED 等器件專案;支援中高壓 SiC 功率模組、GaN 5G 射頻開關、紫外 LED 的研發及產業化,突破 SiC 絕緣柵雙極型電晶體(IGBT)、毫米波射頻器件、MicroLED 關鍵技術。

2.量子晶片。支援單光子源、鐳射器、探測器等光量子晶片的研發及產業化;佈局量子感測器、量子精密測量器件等生產專案;開展量子通訊、量子成像、量子導航、量子雷達、量子計算晶片共性前沿技術攻關。

產業佈局

(一)打造相對完整的積體電路產業鏈聚集區。重點發展三維整合工藝、先進邏輯工藝,加快推進先進儲存器等重點製造專案建設;重點發展中高階晶片設計、IP 核設計、EDA 軟體等產業,加快推進精簡指令集(RISC—V)產學研基地建設;培育裝備、材料、零部件、封測等產業,加快推進矽基 SOI 半導體材料、光刻材料及電子溶劑、築芯產業園等配套專案建設。

(二)構建差異化半導體顯示產業核心區。重點發展中小尺寸顯示面板、大尺寸顯示面板等產業,加快半導體顯示產業鏈向上下游延伸發展,培育核心裝置、關鍵材料、模組、元器件、顯示終端等產業,推進華星 t4、華星 t5、天馬 G6 二期、京東方 10.5 代線擴產、創維 MiniLED 顯示產業園等專案建設。

(三)建立半導體特色產業區。重點發展光電晶片、第三代化合物半導體等產業,推進紅外感測晶片製造、微機電(MEMS)與感測工業技術研究院等專案建設;培育車規級晶片、工控晶片等產業,推進國家新能源和智慧網聯汽車基地建設;培育顯示晶片、資訊保安晶片等產業,推進國家網路安全人才與創新基地建設;培育人工智慧晶片、通用邏輯晶片等產業,推進國家新一代人工智慧創新發展試驗區建設。