SK 海力士 M16 新廠竣工,將首次使用 EUV 光刻機生產
儲存晶片廠商 SK 海力士 2 月 1 日宣佈,其公司位於韓國首爾南部利川市的 M16 新廠已經竣工,SK 海力士將首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機在生產儲存晶片。
SK 海力士經過兩年的時間,花費了 3.5 萬億韓元(約合 31 億美元)建成了這座晶片工廠,工廠長 336 米,寬 163 米,高 105 米,相當於一座 37 層公寓的高度,是 SK 海力士目前最大的晶片工廠。
SK 集團董事長崔泰源在頒獎典禮上稱,建造新工廠的決定在兩年前是十分大膽的,因為當時整個半導體儲存晶片市場正處於低迷,如今看來這個決定十分明智。
SK 海力士稱已在新廠 M16 引進了 EUV 光刻機,從而提高晶片電路的精細程度。
目前 SK 海力士計劃從今年 6 月開始使用 EUV 光刻機量產第四代 10nm(1α)DRAM 晶片。
據 SK 海力士 CEO 李錫熙介紹,M16 是比較先進的晶片製造工廠,集中了符合 ESG(環境、社會和治理)理念的先進設施,例如專門用於 EUV 裝置的車間和最新的汙染減排設施。
他還稱,M16 的竣工也代表著其公司於 2015 年宣佈的 “未來願景”的早期實現。當時,SK 海力士宣佈將從 2014 年起在 10 年內建造三座新工廠,M14 和 M15 分別於 2015 年和 2018 年竣工,M16 是其 “未來願景”中最後一間工廠。
結語:SK 海力士正式使用 EUV 技術,三大儲存廠商只剩美光未使用
本次 SK 海力士的工廠竣工將正好趕上伺服器擴充,全球晶片短缺這一節點。該公司預計今年 DRAM 需求將增長約 17% 至 20%,此外今年伺服器產品的需求也可能增長 30% 以上。SK 海力士的工廠竣工趕在了最合適的節點上,這離不開其公司對整體行業的精準判斷。
同時在 SK 海力士使用 EUV 技術後,三大晶片儲存廠商就只剩下美光還未引入 EUV 光刻機。短期內美光采用 1α工藝的 DRAM 成本可能會低於另外兩家,但是長期來看可能將缺少三星、SK 海力士大規模採用 EUV 技術生產 DRAM 的經驗,這可能會使其在市場競爭中處於下風。