儲存晶片廠商 SK 海力士 2 月 1 日宣佈，其公司位於韓國首爾南部利川市的 M16 新廠已經竣工，SK 海力士將首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機在生產儲存晶片。

SK 海力士經過兩年的時間，花費了 3.5 萬億韓元（約合 31 億美元）建成了這座晶片工廠，工廠長 336 米，寬 163 米，高 105 米，相當於一座 37 層公寓的高度，是 SK 海力士目前最大的晶片工廠。

SK 集團董事長崔泰源在頒獎典禮上稱，建造新工廠的決定在兩年前是十分大膽的，因為當時整個半導體儲存晶片市場正處於低迷，如今看來這個決定十分明智。

SK 海力士稱已在新廠 M16 引進了 EUV 光刻機，從而提高晶片電路的精細程度。

目前 SK 海力士計劃從今年 6 月開始使用 EUV 光刻機量產第四代 10nm（1α）DRAM 晶片。

據 SK 海力士 CEO 李錫熙介紹，M16 是比較先進的晶片製造工廠，集中了符合 ESG（環境、社會和治理）理念的先進設施，例如專門用於 EUV 裝置的車間和最新的汙染減排設施。

他還稱，M16 的竣工也代表著其公司於 2015 年宣佈的 “未來願景”的早期實現。當時，SK 海力士宣佈將從 2014 年起在 10 年內建造三座新工廠，M14 和 M15 分別於 2015 年和 2018 年竣工，M16 是其 “未來願景”中最後一間工廠。

結語：SK 海力士正式使用 EUV 技術，三大儲存廠商只剩美光未使用

本次 SK 海力士的工廠竣工將正好趕上伺服器擴充，全球晶片短缺這一節點。該公司預計今年 DRAM 需求將增長約 17% 至 20%，此外今年伺服器產品的需求也可能增長 30% 以上。SK 海力士的工廠竣工趕在了最合適的節點上，這離不開其公司對整體行業的精準判斷。

同時在 SK 海力士使用 EUV 技術後，三大晶片儲存廠商就只剩下美光還未引入 EUV 光刻機。短期內美光采用 1α工藝的 DRAM 成本可能會低於另外兩家，但是長期來看可能將缺少三星、SK 海力士大規模採用 EUV 技術生產 DRAM 的經驗，這可能會使其在市場競爭中處於下風。