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臺積電將推出增強型3nm工藝 預計2023下半年量產

儘管晶片供應短缺對業界發展造成了些許挫折,但臺積電(TSMC)仍在不斷推進半導體工藝技術,並沒有因此而鬆懈。據DigiTimes報道,臺積電有望在2022年下半年量產N3製程節點,並計劃推出名為N3E的增強型3nm工藝,量產時間為2023年下半年。

臺積電總裁魏哲家在10月14日的公司財報電話會議上指出,N3製程節點仍使用FinFET電晶體的結構,是為客戶提供最佳的技術成熟度、效能和成本。在臺積電3nm工藝技術推出的時候,將成為業界最先進的PPA和電晶體技術,N3製程節點將成為臺積電另一個大規模量產且持久的製程節點。N3E作為N3的擴充套件,將擁有更好的效能和功耗表現。

作為臺積電的最大客戶,這對於蘋果來說是個好訊息,至少不用擔心新款晶片會受到工藝延期拖累。此外,英特爾應該也會感到高興。之前有報道指,英特爾佔據了臺積電N3製程節點最多的產能,雙方在代工方面的許多合作都會在3nm工藝上進行。

據日經新聞報道,上週有關臺積電和索尼合作在日本建設晶圓廠的傳聞有了進一步訊息。這間晶圓廠將會在2022年開始建設,2024年投入使用。正如此前傳言的那樣,不會採用先進工藝,更多地專注於22nm和28nm工藝,主要生產影象感測器、影象處理器和電動車所需的晶片。