光刻機關鍵系統產業化新進展,國望光學啟動裝置招標
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此前公開資訊顯示,國望光學光刻機曝光系統生產基地專案已相繼走過基建與潔淨工程節點,新的招標資訊或顯示生產基地專案將進入裝置安裝除錯階段。
根據計劃,國望光學研發基地將於 2023 年投入執行,屆時該基地將擁有 350/280nm 節點、90/110nm 節點、28nm 及以下節點極大規模 IC 製造投影光刻機曝光光學系統產品的研發、設計與批量生產供貨能力。
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