3 月 8 日訊息上海新陽今日釋出公告：公佈了最新的 ASML-1400 光刻機有關進展。

經各方積極協商、運作，ASML-1400 光刻機裝置於今日已進入合作方北方積體電路技術創新中心（北京）有限公司場地，後續將進行安裝除錯等相關工作。公司採購的 ASML 幹法光刻機裝置順利交付，對加快 193nmArF 幹法光刻膠產品開發進度有積極影響。

據介紹，上海新陽半導體材料股份有限公司自立項開發 193nmArF 幹法光刻膠的研發及產業化專案以來，委託購買了 ASML-1400 光刻機等核心裝置，並於今日運抵國內。

▲ 圖文無關

官方對該公司的影響及風險提示：

1、公司採購的 ASML 幹法光刻機裝置順利交付，對加快 193nm ArF 幹法光刻膠產品開發進度有積極影響，有利於進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力，加快落實公司發展戰略，提高公司抗風險能力和可持續發展能力。

2、該光刻機尚須經過裝機、除錯等相關環節，若相關環節出現工作疏漏或失誤則存在造成所購買的光刻機投入使用的過程較長甚至無法投入使用的風險。

3、光刻膠研發專案技術壁壘高、週期長、至產業化並最終實現銷售利潤仍需一定時間，而公司購買的光刻機裝置價格昂貴，其折舊及後續維護費用預計對公司的經營業績存在一定影響。

提醒，以下為官方公告：