中微公司首臺 8 英寸 CCP 刻蝕機 Primo AD-RIE 200 順利付運
阿新 • • 發佈:2021-06-16
6 月 15 日訊息 今天,中微半導體裝置(上海)股份有限公司(簡稱“中微公司”)首臺 8 英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕裝置 Primo AD-RIE 200 順利付運客戶生產線。
獲悉,Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研發的新一代 8 英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕裝置。基於已被業界廣泛認可的 12 英寸 CCP 刻蝕裝置的成熟工藝與特性,Primo AD-RIE 200 在技術創新和生產效率方面都有了進一步提升,能夠滿足不同客戶 8 英寸晶圓的加工需求。
為提高生產效率,Primo AD-RIE 200 刻蝕裝置可靈活配置多達三個雙反應臺反應腔(即六個反應臺)。此外,Primo AD-RIE 200 提供了可升級至 12 英寸刻蝕裝置系統的靈活解決方案,以滿足客戶生產線未來可能擴產的需求。
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