中微公司 ICP 刻蝕裝置 Primo nanova 第 100 臺反應腔交付
6 月 13 日訊息 從中微公司獲悉，6 月 9 日，中微半導體裝置（上海）股份有限公司在上海總部舉辦電感耦合等離子體（ICP）刻蝕裝置 Primo nanova 第 100 臺反應腔交付客戶慶祝儀式。
瞭解到，Primo nanova 是中微公司於 2018 年釋出的第一代電感耦合等離子體刻蝕裝置，採用了中微公司的電感耦合等離子體刻蝕技術。
中微公司表示，目前，Primo nanova 產品已成功進入海內外十餘家客戶的晶圓生產線，在邏輯晶片、DRAM 和 3D NAND 廠商的生產線上實現大規模量產。
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