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南大光電完成國家科技重大專項,晶片光刻膠已驗收

8 月 2 日訊息7 月 29 日,南大光電官方釋出公告:“關於公司承擔的國家科技重大專項(02 專項)”已通過專家組驗收。其中包括極大規模積體電路製造裝備及成熟工藝、先進 7 奈米光刻膠產品開發與光刻膠供給鏈產業化

據南大光電披露,公司收到極大規模積體電路製造裝備及成套工藝實踐管理辦公室下發的專案綜合績效評價結論書,公司作為牽頭單位,承擔的“極大規模積體電路製造裝備及成套工藝”之光刻膠專案通過了專家組驗收。

據悉,光刻膠專案總體目標是開發高階積體電路製造用 ArF 乾式與浸沒式光刻膠成套工藝技術,形成規模化生產能力;構建與積體電路行業國際先進水平接軌的技術和管理人才團隊等等。專案分為三個子課題,南大光電控股子公司寧波南大光電材料有限公司(以下簡稱寧波南大光電)承接了其中的“ArF 光刻膠產品的開發和產業化”課題。

專家組評定後認為,通過專案的實施,寧波南大光電掌握了 ArF 乾式和浸沒式系列光刻膠產品的原材料製備、配膠、分析檢測、應用驗證等關鍵技術,在智慧財產權和人才培養等方面取得重要進展。形成了由 51 人組成的 ArF 光刻膠研發與生產管理團隊,建成了 ArF 光刻膠產品的質量控制平臺、年產 5 噸的乾式 ArF 光刻膠及年產 20 噸的浸沒式 ArF 光刻膠產業化生產線。實現 ArF 光刻膠產品銷售,完成了任務合同書規定的主要考核指標。

ArF 光刻膠材料是積體電路製造領域的關鍵材料,可以用於 90nm~14nm 甚至 7nm 技術節點的積體電路製造工藝,主要應用於高階晶片製造。目前我國在 ArF、KrF 光刻膠領域中的市場佔比較少,全球大多數的光刻膠市場都被美國、日本壟斷

需要注意的是,有關 7 奈米 ArF 光刻膠的應用,南大光電目前只是小規模投產,與之相關的生產線正在構建當中。在公告中,南大光電也表示,ArF 光刻膠的複雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險,不僅需要技術攻關,還需要在應用中進行工藝的改進、完善。同時,ArF 光刻膠產品國產化替代受品質、客戶的嚴格要求,後續是否能取得下游客戶的大批量訂單,能否大規模進入市場仍存在較多的不確定性。這些都會影響 ArF 光刻膠的量產規模和經濟效益。

瞭解到,5 月末以來,南大光電公司股價累計漲幅超過 150%。