11 月 1 日至 3 日，第 24 屆中國積體電路製造年會暨供應鏈創新發展論壇在廣州成功舉辦，寧波南大光電材料有限公司毛智彪博士在會上發表以《ArF 光刻膠國產化的機遇和挑戰》為主題的演講。

毛智彪博士表示，從國內 IC 光刻膠供應現狀來看，國內 IC 光刻膠基本依賴從日本和美國進口，而美國對中國的貿易限制和日本光刻膠企業產能短缺對國內積體電路製造企業產生了較大影響，這導致國內積體電路製造企業亟需穩定的光刻膠供應。

當前，國外光刻膠供應不穩定問題極大地帶動了光刻膠國產替代的需求。同時，伴隨著汽車電子和 5G 等新應用持續擴大，國內 IC 光刻膠市場需求進一步增長。

值得注意的是，毛智彪博士指出，國產 IC 光刻膠還面臨著四大挑戰：

• 一是本土人才缺乏，需要引進人才和自主培養人才。

• 二是光刻膠產品檢測驗證成本高昂，國內缺少必須的檢測驗證能力。

• 三是國產替代的現實決定了現階段國產光刻膠產品的客製化特性。

• 四是國內缺少光刻膠材料產業鏈，缺少對光刻膠原材料的研發。

據毛智彪博士介紹，光刻膠的原材料主要包括溶劑、成膜樹脂、光致酸劑、抑制劑，其中最難做的材料就是成膜樹脂，不但要用於成膜，而且決定了光刻膠產品的光刻效能和刻蝕效能。而樹脂是高分子材料，需要對奈米級材料的控制，對微觀領域有深刻的理解才能做到光刻膠的材料。

毛智彪博士指出，國產光刻膠需要建立起從原材料到光刻膠產品的產業鏈，並且持續投入對原材料的研發，才能支撐起長久健康的發展。

目前，寧波南大光電已初步開發成功 ArF 光刻膠產品體系，建成了光刻膠生產和檢測基地，培養了一支基礎的人才隊伍。

毛智彪博士表示，作為光刻膠領域的後起之秀，南大光電仍然面臨嚴峻挑戰，還有很長的上山路需要攀登，需要更多的優秀人才加入我們的團隊，共同打造國產光刻膠的未來。