集微網報道 4 月 13 日，南大光電在接受機構調研時表示，公司研發的 ArF 光刻膠主要定位於 90nm-28nm 積體電路的製程應用，公司 ArF 光刻膠產品分別通過一家儲存晶片製造企業和一家邏輯晶片製造企業的驗證，目前多款產品正在多家客戶同時進行認證。

南大光電稱，通過驗證的一家客戶從去年 8 月份以來，一直正常購買公司光刻膠產品。因為是客製化產品，暫未形成規模銷售。ArF 光刻膠根據客戶訂單情況進行生產銷售，目前專案延期至 2022 年底，公司將通過統籌協調全力推進，力爭早日完成該專案建設。

公司 ArF 光刻膠產品第一步是要完成替代進口，進口替代任務完成後，再進行品質提升。目前公司 ArF 光刻膠是從 核心原材料開始進行研發，徹底解決卡脖子問題。

在其他產品方面，目前，南大光電 MO 源的國內市場佔有率約 40%，是國內 MO 源產品品類最齊全的公司之一；砷烷現有產能 30 噸，計劃擴建 70 噸；磷烷現有產能 70 噸，計劃擴建 70 噸；烏蘭察布三氟化氮生產基地建設按計劃正常推進，計劃建設產能 7200 噸，已完成 1800 噸產能建設，目前公司各產品處於滿產滿銷狀態。

從各類產品市場佔有率來看，MO 源國內約 40%；前驅體國內約 8%；氫類電子特氣國內約 60%；三氟化氮國內市佔率約為 35%，國外市佔率約為 10%；六氟化硫主要在國內銷售，市佔率約為 20%。

南大光電錶示，公司努力實施 MO 源 2.0 計劃，通過技術創新不斷優化產品和客戶結構，先進前驅體材料如 28nm 和 14nm 製程前驅體、矽前驅體等產品研發和產業化取得重要突破；氫類電子特氣在技術、品質、產能和銷售各方面已躍居世界前列；氟類電子特氣方面公司加快烏蘭察布“試驗田”建設，為建設“世界單項冠軍”產品奠定堅實的基礎。