1 月 7 日，南大光電在投資者互動平臺表示，目前 ArF 光刻膠在多個技術節點同時認證，尚未涉及 14nm 技術節點。

南大光電還表示，目前公司 MO 源和電子特氣產品訂單處於飽和狀態。ArF 光刻膠可以用於 90nm-14nm 技術節點的積體電路製造工藝。公司目前研發的產品包含乾式光刻膠和浸沒式光刻膠。

MO 源方面，公司除了在 MO 源 2.0 研發方面取得進展外，在高純、低矽低氧三甲基鋁方面加大研發力度，也取得了關鍵性的進展，為 MO 源業務從 LED 向 IC、新能源行業的升級轉型奠定基礎。前驅體方面，除了有客制產品的研發和產業化外，還要將去年從杜邦集團買入的矽前驅體專利進行研發和產業化，目前進展順利。

電子特氣方面，最新升級的超高純砷烷產品品質在下游客戶的測試中已超過目前國際先進同行的技術水平，超高純磷烷產品進入國際一流製程的晶片企業，標誌著公司氫類電子特氣已躍居世界前列。混氣方面的研發進展也比較好，正在積極應對新能源產業和半導體行業升級需求。

據悉，光刻膠業務品控裝置方面，南大光電購買了一些檢測裝置，包括光刻機，也用於檢測光刻膠，屬於光刻效能的檢測，這是質量管控的一部分。對於其他的像純度、顆粒度檢測這塊，南大光電做的是特種電子材料，我們過去已經有很深的技術基礎。人員配備方面，為了更好地與客戶溝通，我們聘請了具備豐富經驗的光刻工程師，來管理光刻膠的質量控制部分。光刻膠原材料方面，我們南大光電的強項就是做合成，所以具備合成單體的能力。部分單體在國內一些企業已經產業化了，不屬於卡脖子的材料，我們直接購買國內的；對於一些特殊的、高技術含量的關鍵單體，由我們自己設計、合成製備。所以可以說，製備光刻膠的單體都已經實現了本土化。